AutoChem全自動化學反應釜

AutoChem全自動化學反應釜用于各種氣液、氣固、液固等物質在一定的壓力、溫度等條件下反應的設備，在物質的化學、聚合、分解、水熱、加氫、腐蝕、超臨界、制藥等方面具有廣泛的應用，能夠進行實驗數據的顯示和采集。主要用于模擬不同溫度壓力轉速下二氧化碳腐蝕，以及二氧化碳腐蝕防護用緩蝕劑配方的研究。

AutoChem全自動化學反應釜運行環境要求:
電壓220VAC±10%；
室溫5～40℃；
相對濕度20%～80%；
森朗全自動化學反應釜所有變量及參數的單位，均采用法定計量單位。

技術要求：
1.1容積：≥500ML
1.2溫度、壓力：≥350℃，壓力：≥10MPa；
1.2.1 所有接觸腐蝕環境的材質均為哈氏合金C-276。
1.3反應釜體、釜頭的材質均為哈氏合金C-276，閥門的材質為不銹鋼316。
1.4 釜頭：
1.4.1主釜頭：
1.4.1.1磁力攪拌器（哈氏合金C-276）；驅動方式：機械攪拌，配有攪拌桿和推進式攪拌槳（哈氏合金C-276），磁力密封，驅動電機無級調速，轉速0-1200轉/分鐘連續可調；
1.4.1.2密封方式：PTFE的密封墊片，開環式密封結構，非法蘭式密封方式；
1.4.1.3雙量程壓力表和防腐防爆膜；
1.4.1.4熱電偶套管（哈氏合金C-276）和熱電偶；
1.4.1.5液體采樣閥和氣體進樣閥，和探底管（哈氏合金C-276）相連；
1.4.1.6氣體釋放閥，用于排空反應釜內的氣體，釋放壓力；
1.4.1.7內置冷卻水盤管（哈氏合金C-276）。
1.4.2密封方式：PTFE的密封墊片，開環式密封結構，非法蘭式密封方式；
1.5 加熱方式：電加熱爐，采用高性能絕熱材料，提供反應釜所需溫度，有快速冷卻功能，釜內350℃時，可快速降至室溫。
1.6控制系統：攪拌轉速控制和PID/程序溫控器；溫度數字顯示，并帶超高溫保護模塊；壓力數字顯示，并帶超高壓保護模塊；轉數數據顯示模塊；控制器雙向通訊電纜，實現溫度、轉速控制、溫度/轉速的數據采集及存儲。

鑄就實驗室反應釜主流影響力，助力中國科研事業發展。世紀森朗擁有著十多年微型高壓反應釜加工技術經驗和反應設備核心技術，可為用戶定制加工適應不同實驗體系的反應設備，并保證其、穩定、操作簡便。